硅晶片表面光阻薄膜厚度测量（UV)

很多方法都可以用来测量薄膜的厚度。这些方法中，紫外可见分光光度计提供了简便的、对薄膜厚度不造成损害的测量方式。

对硅片上两个不同厚度的光阻层(0.5 µm, 3.0 µm)进行测量。结果发现，薄膜越薄，波的周期越长，反之亦然。

允许对所有种类的薄膜进行简易的并且不造成薄膜厚度损害的测量。从薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一个干涉图。在一定波长范围内，薄膜的厚度可通过光谱上波的数量计算得到（在物质的折射率已知的情况下）。